For H^- charge exchange (stripping) injection to European Spallation Source (ESS) storage ring it is necessary to have H^- ion source with a current of ∼90 mA, pulses duration 3 ms, and repetition of 14 Hz (duty factor ∼4%) extendable to repetition up to 28 Hz (df ∼8%). Magnetron surface plasma H^- source (SPS) with cesiation and active cathode and anode cooling is one of the possible solutions. Brookhaven National Laboratory (BNL) magnetron SPS can produce H^- beam current of ∼100 mA at ∼2 kW discharge power and can operate up to a duty factor of ∼1% (average power ∼14 W) without the active cooling. With active cathode and anode cooling it is possible to increase average discharge power up to 140 W(df 8%).For the delivery of the beam to Radio Frequency Quadrupole (RFQ) it is possible to use a short electrostatic Low Energy Beam Transport (LEBT) as in Spallation Neutron Source (SNS).

中文翻译：

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用于 ESS 存储环的 H 表面等离子体源

对于将 H ^-电荷交换（剥离）注入欧洲散裂源 (ESS) 存储环，需要使用电流为 ∼90 mA、脉冲持续时间为 3 ms、重复频率为 14 Hz（占空因数 ∼4）的 H - 离子^源。 %）可扩展到高达 28 Hz 的重复频率（df ∼8%）。具有铯化作用和活性阴极和阳极冷却的磁控管表面等离子体氢^源（SPS）是可能的解决方案之一。布鲁克海文国家实验室 (BNL) 磁控管 SPS 可以在 ~2 kW 放电功率下产生 ~100 mA 的 H^束电流，并且可以在不主动冷却的情况下运行高达 ~1% 的占空因数（平均功率 ~14 W）。通过主动阴极和阳极冷却，可以将平均放电功率提高至 140 W（df 8%）。为了将光束传输到射频四极杆 (RFQ)，可以使用短静电低能量光束传输 ( LEBT）如散裂中子源（SNS）。